Nombre De Pièces: | 1L |
Prix: | Us $50000/L |
Emballage Standard: | Cylindre/réservoir |
Période De Livraison: | 15 jours |
Méthode De Paiement: | L/C, T/T |
Capacité D'approvisionnement: | 5000L/month |
Le gaz Si2H6 est connu sous le nom de disilane, qui est un composé inorganique composé de silicium (Si) et d'hydrogène (H).Voici quelques points clés concernant le gaz disilane:
Structure et propriétés: Le disilane est un gaz incolore à l'odeur piquante, composé de deux atomes de silicium liés à six atomes d'hydrogène.Le disilane est très réactif et peut s'enflammer spontanément en présence d'air ou d'oxygène..
Synthèse et production: le disilane peut être synthétisé par diverses méthodes,y compris la réaction de la poudre de silicium avec de l'hydrogène gazeux à haute température ou par hydrolyse de précurseurs dérivés du siliciumIl est généralement produit et utilisé dans un environnement contrôlé en raison de sa réactivité et de sa flammabilité.
Applications:
Industrie des semi-conducteurs: le disilane est utilisé dans la production de films minces à base de silicium, spécifiquement pour le dépôt de films de silicium de haute qualité dans l'industrie des semi-conducteurs.Il sert de précurseur pour la formation de couches de silicium dans des processus tels que la déposition chimique de vapeur (CVD) et la déposition de couche atomique (ALD).
Cellules solaires: le disilane est utilisé comme gaz précurseur dans la fabrication de cellules solaires à couche mince en silicium.Le dépôt de films de silicium amorphe à l'aide de disilane permet la production de cellules solaires flexibles et peu coûteuses.
Synthèse chimique: le disilane peut être utilisé comme agent réducteur ou comme source de silicium dans diverses réactions chimiques.Polymères à base de silicium, et autres matériaux contenant du silicium.
Considérations de sécurité: Le disilane est très inflammable et peut former des mélanges explosifs avec l'air.Le gaz doit être manipulé avec une extrême prudence, et des mesures de sécurité appropriées, telles qu'une ventilation adéquate et des équipements de protection individuelle, doivent être respectées.
Le gaz disilane, bien que très réactif et dangereux, a des applications importantes dans l'industrie des semi-conducteurs et dans la production de matériaux à base de silicium.Il joue un rôle dans le développement de dispositifs électroniques de pointe et de technologies d'énergie renouvelable.
Numéro de modèle: | Si2H6 | Paquet de transport | Cylindre en Y |
Les spécifications: | 47 L/10 kg | Marque déposée | CMC |
Nom de l'entreprise: | Suzhou, en Chine | Code du SH | 2812190091 |
Capacité de production: | 600 t/an |
Nombre De Pièces: | 1L |
Prix: | Us $50000/L |
Emballage Standard: | Cylindre/réservoir |
Période De Livraison: | 15 jours |
Méthode De Paiement: | L/C, T/T |
Capacité D'approvisionnement: | 5000L/month |
Le gaz Si2H6 est connu sous le nom de disilane, qui est un composé inorganique composé de silicium (Si) et d'hydrogène (H).Voici quelques points clés concernant le gaz disilane:
Structure et propriétés: Le disilane est un gaz incolore à l'odeur piquante, composé de deux atomes de silicium liés à six atomes d'hydrogène.Le disilane est très réactif et peut s'enflammer spontanément en présence d'air ou d'oxygène..
Synthèse et production: le disilane peut être synthétisé par diverses méthodes,y compris la réaction de la poudre de silicium avec de l'hydrogène gazeux à haute température ou par hydrolyse de précurseurs dérivés du siliciumIl est généralement produit et utilisé dans un environnement contrôlé en raison de sa réactivité et de sa flammabilité.
Applications:
Industrie des semi-conducteurs: le disilane est utilisé dans la production de films minces à base de silicium, spécifiquement pour le dépôt de films de silicium de haute qualité dans l'industrie des semi-conducteurs.Il sert de précurseur pour la formation de couches de silicium dans des processus tels que la déposition chimique de vapeur (CVD) et la déposition de couche atomique (ALD).
Cellules solaires: le disilane est utilisé comme gaz précurseur dans la fabrication de cellules solaires à couche mince en silicium.Le dépôt de films de silicium amorphe à l'aide de disilane permet la production de cellules solaires flexibles et peu coûteuses.
Synthèse chimique: le disilane peut être utilisé comme agent réducteur ou comme source de silicium dans diverses réactions chimiques.Polymères à base de silicium, et autres matériaux contenant du silicium.
Considérations de sécurité: Le disilane est très inflammable et peut former des mélanges explosifs avec l'air.Le gaz doit être manipulé avec une extrême prudence, et des mesures de sécurité appropriées, telles qu'une ventilation adéquate et des équipements de protection individuelle, doivent être respectées.
Le gaz disilane, bien que très réactif et dangereux, a des applications importantes dans l'industrie des semi-conducteurs et dans la production de matériaux à base de silicium.Il joue un rôle dans le développement de dispositifs électroniques de pointe et de technologies d'énergie renouvelable.
Numéro de modèle: | Si2H6 | Paquet de transport | Cylindre en Y |
Les spécifications: | 47 L/10 kg | Marque déposée | CMC |
Nom de l'entreprise: | Suzhou, en Chine | Code du SH | 2812190091 |
Capacité de production: | 600 t/an |