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Gaz précurseur dans les applications de traitement de surface des CVD, gaz de cylindre hexafluorure de tungstène

Gaz précurseur dans les applications de traitement de surface des CVD, gaz de cylindre hexafluorure de tungstène

Nombre De Pièces: 1 pièce
Prix: US $ 15/PC
Emballage Standard: Cylindre/réservoir
Période De Livraison: 15 jours
Méthode De Paiement: L/C, T/T
Capacité D'approvisionnement: 200 tonnes par an
Les informations détaillées
Lieu d'origine
Chine
Nom de marque
CMC
Certification
COA
Numéro de modèle
Wf6
Nom du produit:
Hexafluorure de tungstène
Le secteur des transports:
Par mer
Catégorie DOT:
2.3
La pureté:
99999%
Le numéro de modèle.:
Hexafluorure de tungstène
Paquet de transport:
Transport de mer
Spécification:
10 L/15 kg
Marque déposée:
CMC
Origine:
Suzhou, en Chine
Dans le cas contraire.:
7783 à 82-6
Formule:
Wf6
EINECS:
232-029-1 Je suis désolé.
Composant:
L'air pur industriel
Norme de qualité:
Grade industriel
Propriétés chimiques:
gaz de support de combustion
Personnalisation:
Disponible Une demande personnalisée
Quantité de commande min:
1 pièce
Prix:
US $ 15/PC
Détails d'emballage:
Cylindre/réservoir
Délai de livraison:
15 jours
Conditions de paiement:
L/C, T/T
Capacité d'approvisionnement:
200 tonnes par an
Mettre en évidence:

Gaze précurseur de traitement de surface de CVD

,

Hexafluorure de tungstène dans les bouteilles de gaz

,

Gaz précurseur de l'hexafluorure de tungstène

Description du produit

Gaz précurseur dans les applications de traitement de surface des CVD Gaz de cylindre Hexafluorure de tungstène

L'hexafluorure de tungstène (WF6) est un composé chimique composé d'un atome de tungstène et de six atomes de fluor.L'hexafluorure de tungstène est très réactif et peut réagir violemment avec l'eau ou l'humidité de l'air., libérant du fluorure d'hydrogène.

Les applications de l'hexafluorure de tungstène comprennent son utilisation comme précurseur pour le dépôt de films de tungstène dans les processus de fabrication de semi-conducteurs.Il est couramment utilisé dans les techniques de dépôt de vapeur chimique (CVD) pour créer des films minces de tungstène pour diverses applicationsL'hexafluorure de tungstène est préféré dans ces procédés en raison de sa forte pression de vapeur, ce qui permet un dépôt efficace.

Cependant, il est important de manipuler et de stocker l'hexafluorure de tungstène avec prudence en raison de sa réactivité et de sa toxicité.y compris l'utilisation d'équipements de protection et de procédures de manutention appropriés, doit être respectée lors du traitement de ce composé.

Informations de base.
Le COA du produit:
 
Objets d'essai Unités Exigences de qualité Résultats des essais
CF4 en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt01
O2 en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt01
N2 en ppm < 1 0.03
Le CO en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt02
Le CO2 en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt01
SiF4 en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt1
SF6 en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt1
HF en ppm < 5 0.19
Je vous en prie. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt020
Comme ppb ≤ 10 Le taux de dépôt001
B. Pour ppb ≤ 10 Le taux de dépôt005
À peu près ppb ≤ 5 Le taux de dépôt200
Cd ppb ≤ 2 Le taux de dépôt001
Cr ppb ≤ 10 Le taux de dépôt020
Le Fe ppb ≤ 10 Le taux de dépôt007
Le K. ppb ≤ 5 Le taux de dépôt100
Nom de l'entreprise ppb ≤ 10 Le taux de dépôt001
Je ne sais pas. ppb ≤ 5 Le taux de dépôt040
Le ppb ≤ 01 Le taux de dépôt001
- Je vous en prie. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt002
Je vous en prie. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt002
U ppb ≤ 005 Le taux de dépôt001
Zn ppb ≤ 10 Le taux de dépôt005
Je sais. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt100
Pb ppb ≤ 10 Le taux de dépôt001
P ppb ≤ 2 Le taux de dépôt300
M.g. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt020
Je ne sais pas ppb ≤ 20 Le taux de dépôt030
- Je vous en prie. ppb ≤ 5 Le taux de dépôt005
Je vous en prie. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt001
Impuretés totales d'autres métaux ppb ≤ 500 Le taux de dépôt0010
Spécification du produit:

Le tungstène hexafluorure WF6 GAS
Nom CAS: 7783-82-6
Le numéro EINECS: 232-029-1
Nom de l'ONU: UN2196
Pureté: 99,999%
Classe de points: 2.3
Aspect: incolore
Norme de qualité: qualité électronique, qualité industrielle

Photo détaillée
                                   Gaz précurseur dans les applications de traitement de surface des CVD, gaz de cylindre hexafluorure de tungstène 0
 
Profil de l'entreprise

Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd est composé de personnel qualifié, combinant de nombreuses années d'expérience dans l'industrie du gaz.Nous fournissons du gaz de bouteille, du gaz électronique, etc. et le support de gaz, panneau,autres équipements, pièces et services d'ingénierie à nos clients en Chine et dans le monde; Les produits sont impliqués dans divers domaines industriels, tels que la puce semi-conducteur, la cellule solaire, LED, TFT-LCD, fibre optique,de verreNotre mission est de collaborer avec nos clients mondiaux pour fournir un soutien, des solutions et des produits de qualité innovants, fiables et sûrs.
Nos produits comprennent principalement: H2, O2, N2, Ar, CO2, propane, acétylène, hélium, gaz mélangé au laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gaz mélangé dopant (TMB, PH3,B2H6) et autres gaz électroniques.
Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas
Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas
 
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Gaz précurseur dans les applications de traitement de surface des CVD, gaz de cylindre hexafluorure de tungstène
Nombre De Pièces: 1 pièce
Prix: US $ 15/PC
Emballage Standard: Cylindre/réservoir
Période De Livraison: 15 jours
Méthode De Paiement: L/C, T/T
Capacité D'approvisionnement: 200 tonnes par an
Les informations détaillées
Lieu d'origine
Chine
Nom de marque
CMC
Certification
COA
Numéro de modèle
Wf6
Nom du produit:
Hexafluorure de tungstène
Le secteur des transports:
Par mer
Catégorie DOT:
2.3
La pureté:
99999%
Le numéro de modèle.:
Hexafluorure de tungstène
Paquet de transport:
Transport de mer
Spécification:
10 L/15 kg
Marque déposée:
CMC
Origine:
Suzhou, en Chine
Dans le cas contraire.:
7783 à 82-6
Formule:
Wf6
EINECS:
232-029-1 Je suis désolé.
Composant:
L'air pur industriel
Norme de qualité:
Grade industriel
Propriétés chimiques:
gaz de support de combustion
Personnalisation:
Disponible Une demande personnalisée
Quantité de commande min:
1 pièce
Prix:
US $ 15/PC
Détails d'emballage:
Cylindre/réservoir
Délai de livraison:
15 jours
Conditions de paiement:
L/C, T/T
Capacité d'approvisionnement:
200 tonnes par an
Mettre en évidence

Gaze précurseur de traitement de surface de CVD

,

Hexafluorure de tungstène dans les bouteilles de gaz

,

Gaz précurseur de l'hexafluorure de tungstène

Description du produit

Gaz précurseur dans les applications de traitement de surface des CVD Gaz de cylindre Hexafluorure de tungstène

L'hexafluorure de tungstène (WF6) est un composé chimique composé d'un atome de tungstène et de six atomes de fluor.L'hexafluorure de tungstène est très réactif et peut réagir violemment avec l'eau ou l'humidité de l'air., libérant du fluorure d'hydrogène.

Les applications de l'hexafluorure de tungstène comprennent son utilisation comme précurseur pour le dépôt de films de tungstène dans les processus de fabrication de semi-conducteurs.Il est couramment utilisé dans les techniques de dépôt de vapeur chimique (CVD) pour créer des films minces de tungstène pour diverses applicationsL'hexafluorure de tungstène est préféré dans ces procédés en raison de sa forte pression de vapeur, ce qui permet un dépôt efficace.

Cependant, il est important de manipuler et de stocker l'hexafluorure de tungstène avec prudence en raison de sa réactivité et de sa toxicité.y compris l'utilisation d'équipements de protection et de procédures de manutention appropriés, doit être respectée lors du traitement de ce composé.

Informations de base.
Le COA du produit:
 
Objets d'essai Unités Exigences de qualité Résultats des essais
CF4 en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt01
O2 en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt01
N2 en ppm < 1 0.03
Le CO en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt02
Le CO2 en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt01
SiF4 en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt1
SF6 en ppm Le taux de dépôt5 Le taux de dépôt1
HF en ppm < 5 0.19
Je vous en prie. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt020
Comme ppb ≤ 10 Le taux de dépôt001
B. Pour ppb ≤ 10 Le taux de dépôt005
À peu près ppb ≤ 5 Le taux de dépôt200
Cd ppb ≤ 2 Le taux de dépôt001
Cr ppb ≤ 10 Le taux de dépôt020
Le Fe ppb ≤ 10 Le taux de dépôt007
Le K. ppb ≤ 5 Le taux de dépôt100
Nom de l'entreprise ppb ≤ 10 Le taux de dépôt001
Je ne sais pas. ppb ≤ 5 Le taux de dépôt040
Le ppb ≤ 01 Le taux de dépôt001
- Je vous en prie. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt002
Je vous en prie. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt002
U ppb ≤ 005 Le taux de dépôt001
Zn ppb ≤ 10 Le taux de dépôt005
Je sais. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt100
Pb ppb ≤ 10 Le taux de dépôt001
P ppb ≤ 2 Le taux de dépôt300
M.g. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt020
Je ne sais pas ppb ≤ 20 Le taux de dépôt030
- Je vous en prie. ppb ≤ 5 Le taux de dépôt005
Je vous en prie. ppb ≤ 10 Le taux de dépôt001
Impuretés totales d'autres métaux ppb ≤ 500 Le taux de dépôt0010
Spécification du produit:

Le tungstène hexafluorure WF6 GAS
Nom CAS: 7783-82-6
Le numéro EINECS: 232-029-1
Nom de l'ONU: UN2196
Pureté: 99,999%
Classe de points: 2.3
Aspect: incolore
Norme de qualité: qualité électronique, qualité industrielle

Photo détaillée
                                   Gaz précurseur dans les applications de traitement de surface des CVD, gaz de cylindre hexafluorure de tungstène 0
 
Profil de l'entreprise

Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd est composé de personnel qualifié, combinant de nombreuses années d'expérience dans l'industrie du gaz.Nous fournissons du gaz de bouteille, du gaz électronique, etc. et le support de gaz, panneau,autres équipements, pièces et services d'ingénierie à nos clients en Chine et dans le monde; Les produits sont impliqués dans divers domaines industriels, tels que la puce semi-conducteur, la cellule solaire, LED, TFT-LCD, fibre optique,de verreNotre mission est de collaborer avec nos clients mondiaux pour fournir un soutien, des solutions et des produits de qualité innovants, fiables et sûrs.
Nos produits comprennent principalement: H2, O2, N2, Ar, CO2, propane, acétylène, hélium, gaz mélangé au laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gaz mélangé dopant (TMB, PH3,B2H6) et autres gaz électroniques.
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